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合肥百思新材料研究院

合肥欧莱迪光电科技有限公司

 

 

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  • 产品名称: 辉光等效等离子PECVD系统 BTF-1200C-PECVD

 

 

细节展示

 

双层风扇散热装置

 

 

 

 

       贝意克公司研制的PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。其优势有沉积温度低,沉积速率快,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂等。

 

 

产品型号:
BTF-1200C-PECVD
实验机理:
PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体,辉光放电等离子体中:电子密度高109-1012cm3电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍,使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。通过反应气态放电,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点,工艺流程简单。
技术参数:
加热区参数
反应腔体尺寸:Φ50Φ60Φ80Φ100
加热元件:电阻丝(Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo
加热区长度:440mm
恒温区长度:200mm±1
工作温度:1100
最高温度:1200
控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能
控温精度:±1
升温速率:20/min
炉门结构:开启式
工作电源:AC220V /50HZ
额定功率:3KW
空参数
采用KF25系列波纹管和手动挡板阀;
真空度可达10-3torr
数显真空测试仪可直观的显示数值。
流量控制参数
内部装有高精度质量流量计可准确的控制气体流量;
气体流量范围可选,误差为±1.5%
一个气体混气罐的底部安装了液体释放阀;
不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入。
射频电源与匹配器
电源:单相50/60Hz 220v±10%
加热(功率)电源:2.5KW25A
控制柜电源空气开关:32A空气开关 
薄膜生长室温度:室温~ 1200
射频频率:13.56MHz
射频功率输出范围:5~500W
细节展示:
 
外型尺寸:
炉体:940×380×520mm
供气及真空系统:600×600×600mm
净重:
130Kg
认证和专利:
专利号:ZL201320052532.0  (专利产品,防伪必究)

 

关键词:

 

 

 

 

    • 概要:

      祝贺贝意克公司成功研制了特种微距离可调化合物薄膜沉积系统,该系统使用两块独立控温装置,能实现不同梯度...

    • 概要:

      2013年3月份贝意克公司成功研发了小型热压炉,该设备可将压制和烧结两个工序一并完成,可以在较低压力...

    • 概要:

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    • 概要:

      第16届全国晶体生长与材料学术会议”(CCCG-16)定于2012年10月21-24日在安徽合肥稻香...